小林 春洋/著 -- 日刊工業新聞社 -- 2006.12 -- 549.8

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所蔵館 所蔵場所 請求記号 資料番号 資料区分 帯出区分 状態
一般 一般資料室 549.8/2006/ 00012014866 和書 帯出可 在庫 iLisvirtual

資料詳細

タイトル 絵とき薄膜基礎のきそ ,
書名ヨミ エトキ ハクマク キソ ノ キソ
叢書名 Electronics Series
著者 小林 春洋 /著  
著者名ヨミ コバヤシ,ハルヒロ
出版者 日刊工業新聞社
出版年 2006.12
ページ数, 大きさ 9,168p, 21cm
NDC10版 549.8
NDC8版 549.8
一般件名 薄膜
著者紹介 大正14年福島県生まれ。東北大学電気工学科卒業。東北大学工学部助教授、日電アネルバ(株)常務取締役、(株)トーキン特別顧問等を経て、コンサルタント。著書に「レーザのはなし」など。
内容紹介 薄膜の基礎や薄膜を作る方法を紹介し、薄膜の成長過程がその特性に大きな影響を与えること、及び基本特性の評価について概説。良品質の薄膜を得るための条件を挙げ、垂直磁気記録と超LSIに関して薄膜技術との関係を述べる。
内容注記 文献:p165〜166