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現場のスパッタリング薄膜Ｑ＆Ａ 貸出可

小島 啓安／著 -- 日刊工業新聞社 -- 2008.8 -- 549.8

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所蔵館 所蔵場所 請求記号 資料番号 資料区分 帯出区分 状態
一般 一般資料室 549.8/2008/ 00012180527 和書 帯出可 在庫 iLisvirtual

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タイトル 現場のスパッタリング薄膜Ｑ＆Ａ ,
書名ヨミ ゲンバ　ノ　スパッタリング　ハクマク　キュー　アンド　エー
副書名 反応性高速スパッタの実務アドバイス
著者 小島 啓安 ／著  
著者名ヨミ コジマ,ヒロヤス
出版者 日刊工業新聞社
出版年 2008.8
ページ数, 大きさ 9,384p, 21cm
NDC１０版 549.8
NDC８版 549.8
一般件名 薄膜 , 真空技術
ISBN 978-4-526-06119-6 国立国会図書館 カーリル GoogleBooks WebcatPlus
著者紹介 東京都立大学大学院工学研究科工業化学専攻修士課程修了。キャノン、旭硝子、技術移転会社等を経て独立。スパッタリングプロセス、薄膜に関するコンサルタント会社(有)アーステックを設立。
内容紹介 太陽電池や燃料電池などを作る際に役立つスパッタ技術。反応性高速スパッタに関する現場の悩み・疑問をQ&A形式で解説。実際にスパッタリングを使った薄膜作製の開発現場での失敗談も盛り込む。
内容注記 文献：ｐ３７２〜３８０

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