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世界をリードする半導体共同研究プロジェクト 貸出可

垂井 康夫／編著 -- 工業調査会 -- 2008.12 -- 549.8

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所蔵館 所蔵場所 請求記号 資料番号 資料区分 帯出区分 状態
一般 一般資料室 549.8/2008/ 00012191375 和書 帯出可 在庫 iLisvirtual

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タイトル 世界をリードする半導体共同研究プロジェクト ,
書名ヨミ セカイ　オ　リード　スル　ハンドウタイ　キョウドウ　ケンキュウ　プロジェクト
副書名 日本半導体産業復活のために
著者 垂井 康夫 ／編著  
著者名ヨミ タルイ,ヤスオ
出版者 工業調査会
出版年 2008.12
ページ数, 大きさ 318p, 21cm
NDC１０版 549.8
NDC８版 549.8
一般件名 半導体
ISBN 978-4-7693-1277-2 国立国会図書館 カーリル GoogleBooks WebcatPlus
内容紹介 通産省が1975〜1980年に行ったプロジェクト「超LSI共同研究所」とそれ以降の主な研究プロジェクトをレビュー。特に製造装置に重点をおいた効果を考え、その後の研究にどのように生かされてきたかなどを検証する。

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内容一覧

タイトル 著者名 ページ
超LSI共同研究所 垂井 康夫／著 13-42
SEMATECH 鴨志田 元孝／著 45-72
IMEC 赤城 三男／著 73-100
オルバニーナノテク 鴨志田 元孝／著 101-126
あすか(ASUKA)プロジェクト 禿 節史／著 129-140
半導体先端テクノロジーズ(Selete) 相崎 尚昭／著 141-166
半導体理工学研究センター(STARC) 禿 節史／著 167-182
先端SoC基盤技術開発(ASPLA) 禿 節史／著 183-196
超先端電子技術開発機構(ASET) 赤城 三男／著 197-215
半導体MIRAIプロジェクト 赤城 三男／著 217-235
HALCAプロジェクト 溝渕 裕三／著 237-253
DIINプロジェクト 溝渕 裕三／著 255-280
極端紫外線露光システム技術開発機構(EUVA) 赤城 三男／著 281-304

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