西村 成弘/著 -- 有斐閣 -- 2016.12 -- 507.23

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所蔵館 所蔵場所 請求記号 資料番号 資料区分 帯出区分 状態
一般 一般資料室 507.2/2016/ 00014180731 和書 帯出可 在庫 iLisvirtual

資料詳細

タイトル 国際特許管理の日本的展開 ,
書名ヨミ コクサイ トッキョ カンリ ノ ニホンテキ テンカイ
副書名 GEと東芝の提携による生成と発展
著者 西村 成弘 /著  
著者名ヨミ ニシムラ,シゲヒロ
出版者 有斐閣
出版年 2016.12
ページ数, 大きさ 6,334p, 22cm
NDC10版 507.23
NDC8版 507.23
一般件名 特許管理-歴史 , 東芝 , ゼネラル・エレクトリック社
ISBN 978-4-641-16481-9 国立国会図書館 カーリル GoogleBooks WebcatPlus
著者紹介 1973年滋賀県生まれ。京都大学大学院経済学研究科博士後期課程修了。関西大学商学部教授。京都大学博士(経済学)。共編に「グローバル経営史」など。
内容紹介 戦前から国際経営戦略を展開し、日本でも外資系企業として圧倒的な存在感を誇ったGE。同社との特許・技術協定は、東芝の経営進化にどう影響したか。日米の一次史料を渉猟・分析し、多国籍企業史に新たな論点を提起する。