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フォトマスク技術のはなし 貸出可

田辺 功／[ほか]共著 -- 工業調査会 -- 1996.8 -- 549.7

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所蔵館 所蔵場所 請求記号 資料番号 資料区分 帯出区分 状態
一般 公開書庫西 549.7/96/ 00002860658 和書 帯出可 在庫 iLisvirtual

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タイトル フォトマスク技術のはなし ,
書名ヨミ フォト　マスク　ギジュツ　ノ　ハナシ
副書名 超ＬＳＩ、液晶、プリント板を支える
著者 田辺 功 ／[ほか]共著  
著者名ヨミ タナベ,イサオ
出版者 工業調査会
出版年 1996.8
ページ数, 大きさ 262p, 21cm
NDC１０版 549.7
NDC８版 549.7
一般件名 リソグラフィー
内容紹介 フォトマスクは透明なガラス板の上に電子回路のパターンを光を通さない材料で形成した部品である。LSIなどの生産に欠かせないこの技術を紹介する。

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