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半導体プロセス技術 貸出可

丹呉 浩侑／編 -- 培風館 -- 1998.11 -- 549.8

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所蔵館 所蔵場所 請求記号 資料番号 資料区分 帯出区分 状態
一般 公開書庫西 549.8/98/ 00008251498 和書 帯出可 在庫 iLisvirtual

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タイトル 半導体プロセス技術 ,
書名ヨミ ハンドウタイ　プロセス　ギジュツ
叢書名 半導体工学シリーズ
著者 丹呉 浩侑 ／編  
著者名ヨミ タンゴ,ヒロユキ
出版者 培風館
出版年 1998.11
ページ数, 大きさ 325p, 22cm
NDC１０版 549.8
NDC８版 549.8
一般件名 半導体
内容紹介 現在のLSIの基幹を成すSi MOS LSIプロセスを中心に記述。MOSトランジスタの基本知識等を概観した後、リソグラフィ、不純物導入技術などからプロセス評価技術まで、個々の要素プロセスの内容を体系的に詳述。

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