小林 稔/著 -- 日刊工業新聞社 -- 2002.3 -- 549.7

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所蔵館 所蔵場所 請求記号 資料番号 資料区分 帯出区分 状態
一般 一般資料室 549.7/2002/ 00008919623 和書 帯出可 在庫 iLisvirtual

資料詳細

タイトル VLSIプロセス技術 ,
書名ヨミ ヴイエルエスアイ プロセス ギジュツ
副書名 高歩留りのための問題点とその解決
著者 小林 稔 /著, 中島 蕃 /著, 垂井 康夫 /監修  
著者名ヨミ コバヤシ,ミノル , ナカジマ,シゲル , タルイ,ヤスオ
出版者 日刊工業新聞社
出版年 2002.3
ページ数, 大きさ 169p, 22cm
NDC10版 549.7
NDC8版 549.7
一般件名 集積回路
著者紹介 元日本電信電話会社、NEL勤務。工学博士。
内容紹介 LSI製造プロセス開発で発生するプロセストラブルを主体に具体的事例を系統的に示すとともに、LSIの故障解析技術について現状も含めて解説。製造プロセス技術の評価と検討、後工程についても追加した、93年刊の第2版。