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薄膜化技術 貸出可

和佐 清孝／著 -- 共立出版 -- 2002.6 -- 549.8

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所蔵館 所蔵場所 請求記号 資料番号 資料区分 帯出区分 状態
一般 一般資料室 549.8/2002/ 00008978462 和書 帯出可 在庫 iLisvirtual

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タイトル 薄膜化技術 ,
書名ヨミ ハクマクカ　ギジュツ
著者 和佐 清孝 ／著, 早川 茂 ／著  
著者名ヨミ ワサ,キヨタカ , ハヤカワ,シゲル
出版者 共立出版
出版年 2002.6
ページ数, 大きさ 316p, 22cm
NDC１０版 549.8
NDC８版 549.8
一般件名 薄膜
著者紹介 横浜市立大学理学部客員教授。共著に「強誘電性と高温超伝導」他。
内容紹介 原子スケールでの材料技術を特徴としている薄膜は、ナノスケール素材・デバイス形成の要素技術であり、エレクトロニクスや環境技術分野で重要である。基礎科学的視点を追加し、最新のデータを増補した、92年刊に次ぐ第3版。

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