二川 清/著 -- 工業調査会 -- 2007.11 -- 549.7

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所蔵館 所蔵場所 請求記号 資料番号 資料区分 帯出区分 状態
一般 一般資料室 549.7/2007/ 00012095774 和書 帯出可 在庫 iLisvirtual

資料詳細

タイトル LSI故障解析技術のすべて ,
書名ヨミ エルエスアイ コショウ カイセキ ギジュツ ノ スベテ
副書名 開発促進・歩留向上・信頼性向上のキーテクノロジー
著者 二川 清 /著  
著者名ヨミ ニカワ,キヨシ
出版者 工業調査会
出版年 2007.11
ページ数, 大きさ 221p, 21cm
NDC10版 549.7
NDC8版 549.7
一般件名 集積回路
ISBN 978-4-7693-1269-7 国立国会図書館 カーリル GoogleBooks WebcatPlus
内容紹介 LSIの故障解析技術そのものに焦点を絞り、現在どのような技術が利用され、研究開発されているかについて、微細化、マージナル不良、タイミング不良などに対応するものに重点を置いて解説する。
内容注記 文献:p205〜214