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フォトマスク技術のはなし
貸出可
田辺 功/[ほか]共著 -- 工業調査会 -- 1996.8 -- 549.7
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所蔵
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所蔵館
所蔵場所
請求記号
資料番号
資料区分
帯出区分
状態
一般
公開書庫西
549.7/96/
00002860658
和書
帯出可
在庫
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資料詳細
タイトル
フォトマスク技術のはなし ,
書名ヨミ
フォト マスク ギジュツ ノ ハナシ
副書名
超LSI、液晶、プリント板を支える
著者
田辺 功
/[ほか]共著
著者名ヨミ
タナベ,イサオ
出版者
工業調査会
出版年
1996.8
ページ数, 大きさ
262p, 21cm
NDC10版
549.7
NDC8版
549.7
一般件名
リソグラフィー
内容紹介
フォトマスクは透明なガラス板の上に電子回路のパターンを光を通さない材料で形成した部品である。LSIなどの生産に欠かせないこの技術を紹介する。
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