平尾 孝/[ほか]共著 -- 工業調査会 -- 1997.7 -- 549.8

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所蔵館 所蔵場所 請求記号 資料番号 資料区分 帯出区分 状態
一般 公開書庫西 549.8/97/ 00007976129 和書 帯出可 在庫 iLisvirtual

資料詳細

タイトル 薄膜技術の新潮流 ,
書名ヨミ ハクマク ギジュツ ノ シンチョウリュウ
副書名 多彩な新規応用をカバー
叢書名 ケイブックス
著者 平尾 孝 /[ほか]共著  
著者名ヨミ ヒラオ,タカシ
出版者 工業調査会
出版年 1997.7
ページ数, 大きさ 258p, 19cm
NDC10版 549.8
NDC8版 549.8
一般件名 薄膜
内容紹介 半導体、ディスプレイ、記録などのキーデバイスにおける、薄膜形成や微細加工技術の進展と技術レベルが、コストや性能を決定する。薄膜、加工技術の基礎から応用まで、最新情報を踏まえて解説する。